EDI装置

大型EDI除盐装置

工业EDI超纯水说明：

    超纯水是美国科技界为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水。这种水中除了水分子（H20）外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素。超纯水无硬度，口感较甜，又常称为软水，可直接饮用，也可煮沸饮用。

    超纯水,是一般工艺很难达到的程度，如水的电阻率大于18MΩ*cm（没有明显界线），则称为超纯水。

超纯水用途：用于五金、电镀、光电、电子。

     随着环保法规的日益严格、用水品质要求提高和水源匮乏加剧，世界各地的电厂、半导体微电子厂、化工、冶金企业正重新评估他们的超纯水处理设备，EDI作为无需化学品的一种经济实用的环保型*超纯水处理技术，正在逐步取代混床，这正在为超纯水处理带来一场革命。E-CellTMEDI技术能够将二氧化硅和矿物质含量降至1ppb以下，能够将电阻率提高到16Mohm?cm以上，满足了高压及超高压锅炉、精细化工和电子行业对于超纯水的需要。同时E-CellTM EDI大大减少了水处理系统的维护成本，提高了生产效率，延长了设备的生命周期，并将生产现场的危险降至zui低。

1．EDI介绍：EDI是英文Electrodeionization的缩写，中文全称为“连续电去离子技术”，其主要用于替代传统混床技术。超纯水的生产在过去的二十年间，在成本、环境及品质等因素的驱动下，其供水系统发生了许多变化，特别值得一提的事，目前存在一个明确的方向，就是减少对离子交换工艺的依赖性，以便尽可能减少化学药品的使用，并提高产水量。有一项重要的事实可以说明该趋势—反渗透作为阴阳床的替代技术正在普及。

    反渗透作为有效的脱盐技术，其脱盐率可以达到95~99%。但是，RO对离子的去处效果有一定的限度，一般来说，产水电导率0.5us/cm（2 MOhm-cm）是其脱盐的极限。当产水水质有更高的要求的时候，就需要采用混床或等同技术。EDI能高效去除残余离子和离子态杂质， 尤其当用户产水水质要求高，比如对电阻率（>10或者16MOhm-cm）, 二氧化硅（<10ppb或者<1ppb）,钠离子,硼等有严格的要求的时候, EDI技术更体现了其品质的优 越性，且EDI系统的运行成本明显低于与混床，与混床装置及其辅助设备相比，其设备的生命周期总成本占有优势。

   EDI技术在大约50年前就出现了，但是大型的商业化直到1986年才真正开始，时至如今EDI制造商已经为制造了1000套以上的EDI系统。

EDI工作主要有三个过程：

   1，淡水进水淡水室后，淡水中的离子与混床树脂发生离子交换，从而从水中脱离；

   2，被交换的离子受电性吸引作用，阳离子穿过阳离子交换膜向阴极迁移，阴离子穿过阴离子交换膜向阳极迁移，并进入浓水室从而从淡水中去除。离子进入浓水室后，由于阳离子无法穿过因离子交换膜，因此其将被截留在浓水室，同样，阴离子无法穿过阳离子交换膜，被截留在浓水室，这样阴阳离子将随浓水流被排出模块；与此同时，由于进水中的离子被不断的去除，那么淡水的纯度将不断的提高，待由模块出来的时候，其纯度可以达到接近理论纯水的水平。

   3，水分子在电的作用下被不断的离解为H+和OH-，H+和OH-将分别使得被消耗的阳/阴树脂连续的再生。

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